普发HiPace 300分子泵凭借紧凑结构和优秀性能，成为高真空和超高真空应用的理想之选。
HiPace 涡轮分子泵采用混合或磁悬浮轴承系统，确保低噪音和低振动运行。此外，HiPace 还提供特殊型号，包括针对氢气等轻质气体压缩的版本，以及配备耐腐蚀涂层的型号。这些丰富的专用版本选择，使 HiPace 泵成为涂层、半导体制造和分析流程领域的理想解决方案。

普发HiPace 300分子泵在半导体制造、分析仪器、真空镀膜及科研实验等对真空环境要求极为严苛的领域，一款性能稳定、适配灵活的高真空泵是保障工艺质量与研发精度的关键。普发真空（Pfeiffer Vacuum）HiPace 300 涡轮分子泵，凭借其紧凑的结构设计、优秀的抽气性能以及丰富的控制器选配方案，已成为上述应用场景中备受信赖的核心设备。

北京艾禾真空作为专业的真空技术解决方案提供商，致力于为客户提供包括 HiPace 300 在内的优质真空产品与技术支持，助力各行业用户实现高效、稳定的真空工艺应用。

一、普发HiPace 300分子泵产品概述：

HiPace 300 是一款坚固耐用的高性能涡轮分子泵，同时是半导体、分析仪器与真空镀膜领域专用分子泵，对氮气（N₂）的抽速可达 260 l/s。该泵提供 DN 100 ISO-K、ISO-F 及 CF-F 等多种法兰接口规格，适配不同真空系统的安装需求。泵体采用普发真空成熟的混合轴承技术，搭配激光平衡工艺，兼具长使用寿命、低噪音（50 dBA）和低振动的显著优势。

二、核心特点：

1. 两种控制器方案，按需选配

HiPace 300 提供 TC 110 和 TC 400 两种集成式电子驱动单元，用户可根据工艺负载和系统集成要求灵活选择：

TC 110适用于常规气体负载的分析仪器和工业应用，性价比高。

TC 400：适用于气体负载较大的镀膜、半导体刻蚀等工艺场景，气体处理能力更强（氮气流量提升近 3 倍），且支持 Profinet、EtherCAT 等现代工业以太网总线协议，便于接入智能化控制系统。

2. 优异的抽速与压缩比

HiPace 300 对所有常见气体均具备高抽速和高压缩比：

高压缩比意味着在腔室中能够实现更低的残余气体背景，这对于质谱分析等对真空纯净度要求高的应用尤为关键。

3. 灵活安装与广泛适配

HiPace 300 支持任意方向安装，极大地提升了系统集成的灵活性。泵体通过 IP54 防护等级、半导体 S2 及 UL/CSA 认证，能够适应工业环境中的严苛要求。标准配备 RS-485 远程通信接口，并可选配多种现场总线模块。

三、典型应用领域：

HiPace 300 凭借其全面的性能表现，广泛服务于以下行业与场景：

半导体制造：物理气相沉积（PVD）、化学气相沉积（CVD）、原子层沉积（ALD）、等离子体增强化学气相沉积（PECVD）、离子注入、光刻技术、金属及高 K 介质蚀刻、氧化物蚀刻、剥离/灰化、检验与计量、Load Lock 与传输等。

分析仪器与科研：质谱分析（GC-MS、LC-MS）、表面分析（XPS、AFM）、残余气体分析、电子显微镜、检漏技术、高能物理、等离子体物理、超高真空（UHV）系统、太空探索等。

真空镀膜与涂层：薄膜镀层、实验室涂层、真空镀膜等。

工业应用：电子束焊接、真空铜焊/钎焊、3D 打印、热处理、泄漏检测与 EoL 测试、冶金、锂电池生产、制药与生物技术、制冷与空调等。

绿色能源：氢能经济、绿色能源生产、技术气体装瓶等。

四、技术规格速览：

以上参数基于标准配置，具体选型请以实际需求为准。

北京艾禾真空深耕真空技术领域多年，作为普发真空的合作伙伴-，我们不仅提供半导体、分析仪器与真空镀膜领域专用分子泵 HiPace 300 全系列涡轮分子泵产品，更可为客户提供从选型咨询、系统集成到售后维护的全流程专业服务。无论是半导体产线的批量部署，还是实验室科研设备的精准匹配，北京艾禾真空都将以专业的技术能力完备的服务体系，为您的真空应用保驾护航。

如需进一步了解 HiPace 300 的详细参数、选型建议或获取报价，欢迎联系北京艾禾真空。